焊盘失效分析-j9九游会登录入口
1. 案例背景
送检样品为某pcba板,该pcb板经过smt后,发现少量焊盘出现上锡不良现象,样品的失效率大概在千分之三左右。该pcb板焊盘表面处理工艺为化学沉锡,该pcb板为双面贴片,出现上锡不良的焊盘均位于第二贴片面,。
2. 分析方法简述
2.1
如图1所示,通过对失效焊盘进行显微放大观察,焊盘存在不上锡现象,焊盘表面未发现明显变色等异常情况。
图1、失效焊盘图片
2.2 焊盘表面sem eds分析
如图2~4所示,对ng焊盘、过炉一次焊盘、未过炉焊盘分别进行表面sem观察和eds成分分析,未过炉焊盘表面沉锡层成型良好,过炉一次焊盘和失效焊盘表面沉锡层出现重结晶,表面均未发现异常元素;
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图2. ng焊盘的sem照片及eds能谱 | |
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图3.过炉一次焊盘的sem照片 eds能谱图 | |
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图4.未过炉焊盘的sem照片 eds能谱图 |
2.3 焊盘fib制样剖面分析
如图5~7所示,利用fib技术对失效焊盘、过炉一次焊盘及未过炉焊盘制作剖面,对剖面表层进行成分线扫描,发现ng焊盘表层已经出现cu元素,说明cu已经扩散至锡层表面;过炉一次焊盘表层在0.3μm左右深度出现cu元素,说明过炉一次焊盘后,纯锡层厚度约为0.3μm;未过炉焊盘的表层在0.8μm左右深度出现cu元素,说明未过炉焊盘的纯锡层厚度约为0.8μm。鉴于eds测试精度较低,误差相对较大,接下来采用aes对焊盘表面成分进行进一步分析。
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图5. ng焊盘剖面的sem照片及eds能谱 |
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图6.过炉一次焊盘剖面的sem照片 eds能谱图 |
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图7.未过炉焊盘剖面的sem照片 eds能谱图 |
2.4 焊盘表面aes成分分析
对ng焊盘和过炉一次焊盘的极表面成分进行分析, ng焊盘在0~200nm深度范围内,主要为sn、o元素,200~350nm深度范围内,为铜锡合金,几乎不存在纯锡层;过炉一次焊盘在0~140nm深度范围内主要为锡层,之后出现元素cu(金属化合物),如图12~15所示。
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图8.ng焊盘测试位置 | 图9.ng焊盘极表面的成分分析图谱 |
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图10.ng焊盘表面(约50nm深度)的成分分析图谱 | 图11.焊盘表面(0~350nm深度)的成分分布曲线 |
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图12.过炉一次焊盘表面成分分析位置示意图 | 图13.过炉一次焊盘表面的成分分析图谱 |
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图14.过炉一次焊盘表面(约50nm深度)的成分分析图谱 | 图15.过炉一次焊盘表面(0~220nm)深度的成分分布曲线 |
3. 分析与讨论
,由以上分析结果可以导致焊盘不上锡的原因总结如下:
a). ng焊盘表面纯锡层已经完全消耗殆尽(表层氧化,内部则转化为金属间化合物),不能满足良好的可焊性要求;
b). 焊盘经过过炉一次时,高温会促使锡与铜相互扩散,形成合金层,导致纯锡层变薄;
c). ng焊盘在smt贴装前已经过完一次炉,在过炉过程中,表层锡会被氧化,同时高温加剧锡与铜相互扩散,形成铜锡合金,使铜锡合金层变厚,锡层变薄。当锡层厚度小于0.2μm,焊盘将不能保证良好的可焊性,出现上锡不良失效。
4. 建议
(1)采用氮气作为smt保护气氛;
(2)增加pcb板沉锡层厚度,保证在过炉一次后,锡层厚度仍能满足可焊性要求;
5. 参考标准
(1)gjb 548b-2005 微电子器件试验方法和程序 方法 5003 微电路的程序
(2)ipc-j-std-003b-2007 印刷电路板可焊性测试方法
*** 报告结束 ***
作者简介:
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